On Jun 12, 12:31 pm, Jarosław Sokołowski <j...@l...waw.pl> wrote:
> Anerys napisał:
>
> >> Dużo mniejszej niż pół fali? Bo raczej nie tysiąc, nie sto i nie dziesięć
> >> razy mniejszej. Nawet nie dwa razy. Jeśli już, to trochę mniejszej. A tu
>
> > No właśnie, tego nie udao mi się wyłuskać. A nie chciałem snuć jakichś
> > surrealistycznych wyobrażeń, tylko zabazować na tym, co już wiemy i umiemy.
> > Jeśli będziemy umieć jeszcze zmniejszyć ten ten wymiar, to ja się wcale nie
> > pogniewam.
>
> Przecież tu nawet wyłuskiwanie nie jest potrzebne, wystarczy oszacowanie.
> Nawet w tej chwili rozdzielczość technik litograficznych jest zaledwie
> kilka (4-5) razy lepsza od połowy długości światła widzialnego.

Google: sub-wavelength lithography, computational lithography.
Rozdzielczość 22 nm, długość fali 193 nm.
Efekt uzyskuje się przez nakładanie różnych obrazów interferencyjnych
(w sumie też interferencję).
http://download.intel.com/pressroom/kits/research/co
mputational_litho_poster.pdf

Widzialnego już od dawna się nie używa i właściwie prawie wcale się
nie używało. Obecnie początek UV "próżniowego". Jeżeli jednak redukcja
rozmiarów będzie dalej postępować tak szybko (do pewnych granic
oczywiście), to problem długości fali przeskoczymy przy okazji. Można
przejść z UV na X, albo litografię wiązką elektronów/jonów itp., z tym
że to są oczywiście koszta, urządzenia, badania itd., w małej skali
(badawczej) już się robi.