On Tue, 30 Apr 2024 10:17:05 GMT, Marcin Debowski wrote:
> On 2024-04-30, J.F <j...@p...onet.pl> wrote:
>> On Tue, 30 Apr 2024 09:51:56 GMT, Marcin Debowski wrote:
>>> On 2024-04-30, J.F <j...@p...onet.pl> wrote:

>>> To co przepraszam, to
>>> spolerowali wiązania do połowy? A jeszcze wiadomo, że na powierzchni
>>> cząsteczki zachowują się inaczej niż w masie materiału bo nie są
>>> ograniczone/przyciągane innymi cząsteczkami. A temperatura to są okolice
>>> zera absolutnego dla tych 50pm? Przecież atomy w cząsteczce "wibruje" a
>>> amplituda OIDP jest tego samego rzędu co długość wiązania.
>>>
>>> https://asset-downloads.zeiss.com/catalogs/download/
smt/2f5250f6-00a1-4d8e-a468-6bf812335b10/high-na-euv
-optics_preparing-lithography-for-the-next-big-step.
pdf
>>>
>>> Co prawda te 50pm to jest rms dla obszaru o średnicy 5mm, ale to nadal MZ
>>> trudne do uwierzenia.
>>
>> Tez mnie ciekawi, no ale jak się mysli o technologii 1.6nm,
>> to lustra muszą być dokładne.
>>
>> Swoją drogą - to znacznie mniej od długości fali światła.
>> Jak oni to zrobili ?
>
> Ja nie wiem co oni właściwie mierzą i jak bo w końcu te 50pm coś im
> mierzy. "Micro Interferometer" się nazywa. Trochę ogólna nazwa.

O lustrach to ja nie wiem, ale EUV uzywa promieniowania cyny
o długosci fali 13.5nm. Co jeszcze moze do 7nm pasuje,
ale teraz ma byc 1.6nm ... znow w wodzie, czy co?

A jak oni pozycjonują i chip i resztę ... są o tym kolejne filmy.

J.